“亦庄造”支持国产半导体装备批量上新
发布时间：2024-03-21
信息来源：北京亦庄微信公众号
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发布时间：2024-03-21
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编者按：作为首都实体经济的压舱石，高精尖产业主阵地，北京亦庄深入贯彻全国两会精神，牢牢把握新一轮科技革命和产业变革趋势，在推进科技创新和产业创新深度融合中培育和壮大新质生产力，加快塑造高质量发展新动能新优势。即日起，北京经开区融媒体中心推出“深入贯彻全国两会精神 加快发展新质生产力 北京亦庄当好开路先锋”栏目，生动展示全区上下大力发展新质生产力，当好首都高质量发展开路先锋的生动实践。今日发布第一篇：“亦庄造”支持国产半导体装备批量上新。
国产12英寸双大马士革CCP刻蚀机、多款12英寸立式炉原子层沉积（ALD）设备……近日，北方华创科技集团股份有限公司（以下简称“北方华创”）发布多款新品，以科技支撑产能，塑造产业新的竞争力。
Accura LX设备作为北方华创推出的12英寸双大马士革CCP（电容耦合等离子体）介质刻蚀产品，为北方华创开拓了一个全新的产品市场领域，能够与现有的12英寸硅、金属刻蚀机形成完整的刻蚀工艺解决方案。”北方华创相关负责人介绍道。
刻蚀机是推动半导体产业实现高质量发展的核心驱动力，北方华创组建专业研发团队开发面向关键制程的12英寸介质刻蚀机Accura LX，机台主要覆盖逻辑领域多个技术节点中以AIO (双大马士革刻蚀工艺)、Contact (接触孔)为代表的关键介质刻蚀制程，并可扩展到存储领域的CMOS (互补金属氧化物半导体)相关制程，适用于Low-K（低介电常数）介质及常规介质材料的刻蚀工艺。
Accura LX设备工艺性能优于当前行业指标。同时，Accura LX所搭建的12英寸CCP刻蚀机硬件架构和技术平台，可以用于存储、CIS (互补金属氧化物半导体图像传感器)、Power(功率半导体)等多个领域，应用前景广阔。据介绍，目前，Accura LX设备已得到多个客户的青睐，完成多项工艺验证。
此外
北方华创紧跟产业发展步伐
依托深厚的立式炉装备技术积累
还研发推出
3款12英寸立式炉原子层沉积设备
进入客户端验证
且实现大规模量产
等离子体增强氮化硅（PEALD Si3N4）原子层沉积立式炉，作为国产首批上市量产的等离子体增强氮化硅原子层沉积立式炉，为极大规模先进集成电路制造提供了可靠的装备支撑。
低介电常数（Low-K）原子层沉积立式炉主要应用于12英寸极大规模集成电路的栅极侧壁薄膜沉积工艺，工艺指标优于同类产品。目前设备已进入客户端工艺验证阶段。
间隙填充氧化硅原子层沉积立式炉主要应用于存储领域氧化硅绝缘层和介质填充层。在存储阵列中，该氧化硅薄膜对与其相关的前后道膜层功能发挥着关键作用，是立式炉在该领域工艺制程中的骨干设备。目前，设备已进入客户端。
据悉，北方华创经过多年的技术创新及产业化验证，已实现立式氧化/退火炉，立式LPCVD和立式ALD系列设备全面布局，并预计在今年下半年推出立式炉原子层沉积设备的其他DEMAX系列产品。
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